成都华新南光真空设备有限公司

产品描述： 主要技术参数： 1、适用于Φ6"、Φ5"、Φ4"基片，基片厚度0～5mm均可。 2、采用多点光源曝光头，最大输出光束≥Φ160mm；光束不均匀性≤±7%，（Φ150mm范围内）。 3、光源采用350W直流汞灯。 4、版、片对准精度±0.5μm。 5、采用片动、版不动的对准方式以及三点找平机构。 6、扫描观察范围：±15mm。 7、采用双目视场显微镜，放大倍数50X～375X。也可采用双CCD加液晶监视器来显示，放大倍数30X～189X或67.5X～420X。 8、采用时间继电器（可从0.1秒～999.9秒预设）控制曝光头的气动快门，以实现曝光时间的自动控制。 9、能实现硬接触曝光、软接触曝光及微力接触曝光。 10、电控采用PLC控制，各主要元器件（如电磁阀）均采用进口品牌件。